1. Kremniy xrom: kremniy xrom qotishmasidan Cr + Si=75% talab qilinadi va Cr miqdori imkon qadar yuqori bo'lishi kerak, bu o'choq ishlab chiqarishni oshirish va tizim quvvat sarfini kamaytirish uchun foydalidir. Barqaror nav darajasi nuqtai nazaridan, eritish sifati 0,06% dan kam bo'lsa, kremniy xrom zarrachalarining hajmi 1-19 mm da nazorat qilinishi kerak.
2. Xrom rudasi: Xrom rudasini moslashtirishda o'rtacha SiO2 miqdori imkon qadar past bo'ladi. Turli xil xrom rudalarini eritish davrlarini taqqoslashdan ko'rinib turibdiki, agar o'choqqa kiradigan rudaning SiO2 miqdori 1% ga oshsa, ohak miqdorini 2% ga oshirish kerak, bu esa quvvatga salbiy ta'sir qiladi. iste'mol va ohak. Iste'mol va tiklanish darajasi noqulay. Shu bilan birga, xrom rudasining namligi 5% dan kam bo'lishi, bo'lakli rudaning zarracha hajmi esa 0-20 mm bo'lishi kerak. Eriydigan kukunli ruda yoki konsentratdan foydalanganda eritish effekti yaxshi bo'ladi.
3. Ohak: ohak tarkibidagi SiO2 miqdori juda yuqori, shuning uchun ohak miqdori ko'payishiga majbur bo'ladi, bu cüruf miqdorini sezilarli darajada oshiradi, eritish vaqtini uzaytiradi va elektr energiyasini isrof qiladi. Shuning uchun, SiO2 2% dan kam va zarracha o'lchami spetsifikatsiyasi 20-50 mm.
